| 專利名稱 | 透過瑕疵複數光場之透明基板瑕疵檢測方法 |
| 年度 | 108 |
| 專利國別 | 中華民國、美國 |
| 發明人 | 鄭超仁 |
| 共同發明人 | 杜翰艷、張簡光哲、林昱志 |
| 核准證號 | I664586、US 10,983,478 B2 |
| 屬性 | 本校 |
| 研發單位 | 光電工程研究所 |
| 專利簡介 | 一種透明基板之瑕疵檢測方法，包括：利用一波前重建單元，取得一透明基板之瑕疵複數光場；利用一瑕疵繞射模組，確認該瑕疵複數光場之有效的繞射範圍；利用一瑕疵偵測模組，偵測該透明基板之瑕疵所在的位置；利用一瑕疵分類模組，執行繞射特徵之擷取、分析與分類，並利用機器學習或深度學習演算法進行自動化瑕疵辨識。 |
| 專利期限 | 2038/03/21 |
| 技術領域 | 光電工程 |
| 適用產業別 | 19.電腦、電子產品及光學製品業 |
| 技術應用方式與預期產品說明 | 透明基板瑕疵檢測：高穿透特性之透明基板導致其瑕疵不易被傳統造影技術檢測，因此往往透過人工方式檢測其基板瑕疵，因此費時且良率不高，透過所提之技術可有效且快速進行各類透明基板與不同瑕疵之自動檢測。 生醫影像：細胞辨識與分類以及細胞特徵標註，以應用於癌化細胞診斷等相關細胞病變之分析與判斷。 工業檢測：光學元件或相關機件於溫濕度變化、應力施加等外在因素下產生之外部瑕疵變化等檢測。 |
| 關鍵字 | 玻璃基板、瑕疵檢測 |
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