| 專利名稱 | 形成一圖形化導電薄膜之方法 |
| 年度 | 107 |
| 專利國別 | 中華民國 |
| 發明人 | 鄭淳護 |
| 共同發明人 | 劉冠頡 |
| 核准證號 | I622668 |
| 屬性 | 非本校 |
| 研發單位 | 機電工程學系 |
| 專利簡介 | 本發明係關於一種形成一圖形化導電薄膜之方法，包含以下步驟：於一基板上塗佈一水溶性遮罩；將分散於一非水溶性溶劑之一奈米碳材均勻被覆於該基板及該水溶性遮罩上；利用一水性清洗劑將該基板上之該水溶性遮罩移除，以使該奈米碳材形成一圖形；及利用該奈米碳材之一導電性，電鍍一金屬材料於該奈米碳材上以形成一金屬層，以形成該圖形化導電薄膜。 |
| 專利期限 | 2037/04/27 |
| 技術領域 | 電子工程 |
| 適用產業別 | 19.電腦、電子產品及光學製品業 |
| 技術應用方式與預期產品說明 | 本專利具產業利用性，適用於3C產品、生醫材料、穿戴式微型裝置及汽機車零件等相關產品，如手機機殼零組件、 平板電腦機殼零組件、 汽車零件等。 |
| 關鍵字 | 導電薄膜、石墨烯 |
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