| 專利名稱 | 渦集式奈米碳材製備裝置 |
| 年度 | 107 |
| 專利國別 | 中華民國 |
| 發明人 | 鄧敦平 |
| 共同發明人 | 鄭慶民、尤尚邦 |
| 核准證號 | I633051 |
| 屬性 | 本校 |
| 研發單位 | 工業教育學系 |
| 專利簡介 | 一種渦集式奈米碳材製備裝置，包含一集液槽、一排氣通道、一氧/乙炔焰噴嘴及一彎曲型阻流板。該集液槽包括一開口。該排氣通道設置於該開口上方並包括一圍繞壁，該圍繞壁之一側具有一設置於該開口的有孔擋板。該氧/乙炔焰噴嘴設置於該開口上方及該排氣通道外，並朝向該有孔擋板。該彎曲型阻流板設置於該集液槽內及該排氣通道內，且部分延伸至該開口上方，該彎曲型阻流板之凹面朝向該有孔擋板，並界定出一位在該彎曲型阻流板及該有孔擋板之間的第一主混合空間。本發明渦集式奈米碳材製備裝置可兼顧生產方面及環境方面的需求。 |
| 專利期限 | 2037/11/02 |
| 技術領域 | 化學 |
| 適用產業別 | 10.化學材料業 |
| 技術應用方式與預期產品說明 | 本專利在奈米材料相關製造產業具產業利用性。如散熱工作流體製造、石墨烯系列材料製造、奈米碳系材料添加物製造以及能源相關領域的產品與設備應用。 |
| 關鍵字 | 奈米碳材、石墨烯 |
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